產(chǎn)品詳情
現(xiàn)在生產(chǎn)線上顯影液涂覆方法主要有兩種:日本HD產(chǎn)線傳送諧波CSF-25-160-2A-GR連續(xù)噴霧顯影和旋轉(zhuǎn)浸沒顯影。光刻膠顯影過程需要控制的主要工藝技術(shù)參數(shù)包括:顯影溫度、顯影時間、顯影液量、當(dāng)量濃度、清洗、排風(fēng)。
顯影后的熱烘培稱為堅日本HD產(chǎn)線傳送諧波CSF-25-160-2A-GR膜烘培,目的是蒸發(fā)掉硅片光刻膠中剩余溶劑,從而使光刻膠變硬,提高光刻膠與硅片的粘附性。堅膜過程也可以蒸發(fā)掉殘余在硅片上的顯影液和清洗用水。堅日本HD產(chǎn)線傳送諧波CSF-25-160-2A-GR膜過程通常在硅片軌道系統(tǒng)的熱板上,或在生產(chǎn)線上的專用爐中完成。堅膜溫度大致為:正膠130℃,負膠150℃。