產(chǎn)品詳情
基本上，兩種濺鍍機(jī)都可鍍著金屬薄膜。日本HD有鉻金屬諧波CSF-32-50-2A-GR但后者特別可以針對非金屬薄膜，如壓電(piezoelectric)或磁性材料，具有「絕緣、熔點(diǎn)高、成份復(fù)雜、對堆棧方式相當(dāng)敏感」等智能型薄膜之鍍著特征。
1、 金屬薄膜圖形定義
利用光蝕術(shù)定義妥之光阻，泡入適當(dāng)酸液中，可蝕出金屬線路日本HD有鉻金屬諧波CSF-32-50-2A-GR，此與蒸鍍抑或?yàn)R鍍并無關(guān)連。然而部份金屬蝕液是堿液，如鉻，早期常用「赤血鹽-氫氧化鉀」溶液來定義圖案，直接用光阻遮掩會(huì)失敗(還沒蝕到底，光阻已經(jīng)溶散了！)，所以必須多蒸著一層金，間接以碘化鉀-碘溶液定義出金之圖案后，再以金之圖案來作掩膜，進(jìn)行鉻的腐蝕(如此之繁復(fù)，常使初學(xué)者暈頭轉(zhuǎn)向，現(xiàn)在已經(jīng)有鉻金屬的蝕洗液)。另一個(gè)令人更擾人的問題在于：酸液有側(cè)向侵蝕的日本HD有鉻金屬諧波CSF-32-50-2A-GR現(xiàn)象，所以無法制作出次微米之金屬線。
