產(chǎn)品詳情
，只是離心的徹體力效果，使光阻穩(wěn)定地、且是呈同心圓狀地向外涂布。日本HD深刻模造術(shù)諧波SHF-40-80-2UH? 根據(jù)實際使用顯示，GYRSET?只需一般涂布機的55%光阻用量。另外，其也可應(yīng)用于厚光阻之涂布(厚度自數(shù)微米至數(shù)百微米不等)。受涂基板也可由晶圓改為任意的工作外型，而不會造成邊緣一大部日本HD深刻模造術(shù)諧波SHF-40-80-2UH?份面積厚度不均的花花外貌。
[注]厚光阻是新近發(fā)展出來，供微機電研究使用的材料，如IBM的SU-8系列光阻，厚度由數(shù)微米至100微米不等，以GYRSET?涂布后，經(jīng)過嚴(yán)格的烘干程序，再以紫外線或準(zhǔn)分子雷射(excimerlaser)進行曝光顯影日本HD深刻模造術(shù)諧波SHF-40-80-2UH?后，所得到較深遂的凹狀圖案，可供進一步精密電鑄(electro-bing)的金屬微結(jié)構(gòu)成長填塞。這種加工程序又稱為「仿LIGA」制程(poormansLIGA)，即「異步X光之深刻模造術(shù)」。
