主營產(chǎn)品：上海諧波減速機|哈默納科|harmonic|NIKUNI|山洋
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| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | FHA-40C-100-E25 |
| 類型 | 錐齒輪減速器 | 載荷狀態(tài) | 均勻載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 無級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動布置形式 | 同軸式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 減速機 |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 111kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 47.6rpm | 許用扭矩 | 22N.m |
| 使用范圍 | 軍工 | 減速比 | 323 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
一般來說，互連材料淀積在硅片表面，然后有選擇性地去除它哈默納科顯影精密諧波FHA-40C-100-E250-BC，就形成了由光刻技術(shù)定義的電路圖形。這種有選擇性地去除材料的工藝過程，叫做刻蝕，在顯影檢查完后進(jìn)行，刻蝕工藝的正確進(jìn)行非常關(guān)鍵，否則芯片將不能工作。更重要的是，一旦材料被刻蝕去掉，在刻蝕過程中所犯的錯誤將難以糾正。刻哈默納科顯影精密諧波FHA-40C-100-E250-BC蝕的要求取決于要制作的特征圖形的類型，如合金復(fù)合層、多晶硅柵、隔離硅槽或介質(zhì)通孔。
光刻包括兩種基本的工藝類型：負(fù)性光刻和正性光刻。負(fù)性光刻把哈默納科顯影精密諧波FHA-40C-100-E250-BC與掩模版上圖形相反的圖形復(fù)制到硅片表面。正性光刻把與掩模版上相同的圖形復(fù)制到硅片上。這兩種基本工藝的主要區(qū)別在于所用光刻膠的種類不同。光刻工藝過程包括8個基本步驟：氣相成底模、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘、對準(zhǔn)和曝光、曝光后烘培、顯影、堅膜烘培、顯影檢查。
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