產(chǎn)品詳情
光氧等離子設(shè)備的原理主要為：當(dāng)廢氣進(jìn)入等離子光解一體機(jī)凈化設(shè)備內(nèi)時(shí)，先經(jīng)過等離子體化學(xué)反應(yīng)過程，即電子首先從電場獲得能量，通過激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發(fā)，同時(shí)有部分分子被電離， 從而成為活性基團(tuán);之后這些活性基團(tuán)與分子或原子、活性基團(tuán)與活性基團(tuán)之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。(在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無毒無害或低毒低害的物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。)然后部分有機(jī)廢氣再通過破壞、分解、催化氧化把污染氣體分解為無毒無害無味氣體。采用高能C波段光線強(qiáng)裂污染氣體分子鏈，改變物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)裂解、氧化成為低分子無害物質(zhì)，如水和二氧化碳等。O3強(qiáng)催化氧化劑進(jìn)行廢氣催化氧化， 可有效地殺滅細(xì)菌，將有毒有害物質(zhì)破壞且改變成為低分子無害物質(zhì)。在C波段激光刺激催化劑涂層產(chǎn)生活性，強(qiáng)化催化氧化作用。
