產(chǎn)品詳情
凈化原理
????????廢氣在設備內(nèi)通過具有一定能量的光照射，光敏半導體材料即被光激發(fā)出電子 - 空穴對，吸附在 光敏半導體表面的溶解氧、水及污染物分子接受光生電子或空穴，從而發(fā)生一系列的氧化還原反應，使污染物降解為二氧化碳和水等物質(zhì)。在外加紫外線的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生大量攜能電子轟擊污染物分 子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)一系列復雜的物理、化學反應，使復雜的大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)?簡單小分子安全物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。然后極小部分未被裂解的污染物進入活性炭吸附床， 有機污染物被吸附于活性炭的微孔之中，Z終排放潔凈的氣體。
產(chǎn)品性能
????高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高，脫臭效果超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）。
????適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
????運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，設備風阻低，可節(jié)約大量排風動力能耗。
????無需溫濕度處理：惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設備工作環(huán)境溫度在攝氏-30°－95°之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。
????設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。
? ? 較優(yōu)質(zhì)材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長。
????環(huán)保高科技產(chǎn)品：通過及我公司工程技術(shù)人員長期反復的試驗，開發(fā)研制出的，可分解惡臭氣體中有毒有害物質(zhì)，并能達到想要的脫臭效果，經(jīng)分解后的惡臭氣體，可達到無害化排放，不產(chǎn)生二次污染，同時達到高效消毒殺菌的作用。
UV光氧催化設備采用地和遠程兩種運行模式：地控制模式下，通過控制箱的控制按鈕控制設備的啟停；在遠程控制模式下，可在上位機對設備進行啟停控制。提供與控制室相適應的接口，能實現(xiàn)地與遠程控制。
科技含量高：采用UV裂解廢氣物質(zhì)的化學鍵及氧化技術(shù)，突破單一體系的反應局限，在整個反應體系中，有兩種氧化能力的氧化劑—O3和·OH參與反應，使得脫臭**佳，惡臭氣體礦化程度高，可化排放，無二次污染。具有自主知識產(chǎn)權(quán)的環(huán)保凈化產(chǎn)品。
UV光氧催化設備的特點：
除惡臭：光量子催化氧化除臭設備能去除揮發(fā)性物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭，污染物均被證實可通過光解催化氧化治理,即使對原子物如鹵代烴、燃料、含氮物、磷殺蟲劑也有很好的去除**。無需添加任何化學物質(zhì)：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何化學物質(zhì)參與化學反應。
UV光氧催化設備適用范圍廣：可適應高、低濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定。
UV光氧催化設備運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，設備風阻極低＜50pa，可節(jié)約大量排風動力能耗。
UV光氧催化設備占地面積?。鹤灾剌p：適合于布置緊湊、場地狹小等條件。
UV光氧催化設備材料制造：使用壽命長。
UV光氧催化設備適用范圍：煉油廠、橡膠廠、皮革廠、印刷廠、化工廠、中西藥廠、金屬鑄造廠、塑料廠、噴涂溶劑等和無機物惡臭氣體的脫臭凈化處理、餐飲業(yè)、噴漆車間、油墨印刷、噴涂車間、化工、醫(yī)藥、橡膠、食品、印染、、造紙、釀造等生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢氣。
